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光刻工艺材料

光刻胶

半导体光刻核心感光材料,通过紫外/电子束曝光实现晶圆表面电路图形转移,是芯片微纳图形化、制程精度、良率管控的核心基础耗材,广泛适配晶圆制造、先进封装、微纳科研全工序。

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