前道晶圆制造设备 电子束光刻机（EBL System） 基于聚焦电子束扫描原理的无掩模图形转印设备,利用电子束极短波长实现纳米级超高分辨率直写,是掩模版制造、先进工艺研发与微纳器件制备的核心装备。 了解详情 »
洁净室耗材 无尘擦拭布 半导体无尘车间核心超净耗材，采用超细连续纤维织造工艺，无掉屑、低发尘、防静电，可高效清除晶圆、设备、治具表面微颗粒与残留污渍，是芯片制程、精密封装、微纳科研的洁净保障耗材。 了解详情 »
前道晶圆制造设备 自动涂胶显影机 半导体光刻工艺核心配套全自动设备，集成精密涂胶、温控烘烤、湿法显影全流程工艺，为光刻曝光提供均匀胶膜、精准成型图形，是保障芯片光刻精度与良率的基础关键装备。 了解详情 »
